1. Chemical Vapor Deposition
المؤلف:
المکتبة: کتابخانه مرکزی و مرکز اطلاع رسانی دانشگاه محقق اردبیلی ره (أردبیل)
موضوع: Vapor Deposition
رده :
TS695
.
H5
1993
2. Chemical vapor deposition
المؤلف: / edited by Jong - Hee Park, T.S. Sudarshan
المکتبة: مكتبات الكلية التقنية 1 بجامعة طهران (طهران)
موضوع: Vapor-Plating,Refractory coating
رده :
TS
695
.
C52
2001
3. Chemical vapor deposition
پدیدآورنده :
موضوع : ، Vapor-plating,، Refractory coating
۳ نسخه از این کتاب در ۳ کتابخانه موجود است.
4. Chemical vapor deposition /
المؤلف: edited by Jong-Hee Park, T.S. Sudarshan.
المکتبة: کتابخانه مطالعات اسلامی به زبان های اروپایی (قم)
موضوع: Refractory coating.,Vapor-plating.,Engineering & Applied Sciences.,Industrial & Management Engineering.,Mechanical Engineering.,Refractory coating.,TECHNOLOGY & ENGINEERING-- Technical & Manufacturing Industries & Trades.,Vapor-plating.
رده :
TS695
.
C52
2001eb
5. Chemical vapor deposition
المؤلف: / edited by Jong - Hee Park, T.S. Sudarshan
المکتبة: مكتبات الكلية التقنية بجامعة طهران (طهران)
موضوع: Vapor-Plating,Refractory coating
رده :
TS
695
.
C52
2001
6. Chemical vapor deposition
المؤلف: / edited by Michael L. Hitchman and Klavs F. Jensen
المکتبة: مكتبات الكلية التقنية 1 بجامعة طهران (طهران)
موضوع: Chemical vapor deposition,Plasma-Enhanced chemical vapor deposition
رده :
TS
695
.
C54
1993
7. Chemical vapor deposition
المؤلف: edited by Jong-Hee Park, T.S. Sudarshan
المکتبة: کتابخانه مرکزی و مرکز اطلاع رسانی دانشگاه فردوسی مشهد (خراسان رضوی)
موضوع: ، Vapor-plating,، Refractory coating
رده :
TS
695
.
C52
2001
8. Chemical vapor deposition
المؤلف: / edited by Michael L. Hitchman and Klavs F. Jensen
المکتبة: مكتبات الكلية التقنية بجامعة طهران (طهران)
موضوع: Chemical vapor deposition,Plasma-Enhanced chemical vapor deposition
رده :
TS
695
.
C54
1993
9. Chemical vapor deposition for microelectronics :
المؤلف: by Arthur Sherman.
المکتبة: کتابخانه مطالعات اسلامی به زبان های اروپایی (قم)
موضوع: Integrated circuits-- Design and construction.,Vapor-plating.,Integrated circuits-- Design and construction.,TECHNOLOGY & ENGINEERING-- Electronics-- Digital.,TECHNOLOGY & ENGINEERING-- Electronics-- Microelectronics.,Vapor-plating.
رده :
TS695
.
S54
1987eb
10. Chemical vapor deposition for microelectronics
المؤلف: / by Arthur Sherman
المکتبة: مكتبات الكلية التقنية 1 بجامعة طهران (طهران)
موضوع: Vapor-plating,Integrated circuits - Design and construction
رده :
TS
695
.
S54
1987
11. Chemical vapor deposition for microelectronics
المؤلف: / by Arthur Sherman
المکتبة: مكتبات الكلية التقنية بجامعة طهران (طهران)
موضوع: Vapor-plating,Integrated circuits - Design and construction
رده :
TS
695
.
S54
1987
12. Chemical vapor deposition for microelectronics :
المؤلف: by Arthur Sherman.
المکتبة: کتابخانه مطالعات اسلامی به زبان های اروپایی (قم)
موضوع: Chemical vapor deposition.,Integrated circuits-- Design and construction.,Aufdampfen.,Aufdampfen.,Chemical vapor deposition.,CVD-Verfahren.,CVD-Verfahren.,Dépôt en phase vapeur.,Integrated circuits-- Design and construction.,Microélectronique.,Mikroelektronik.,Mikroelektronik.
رده :
TS695
.
S54
1987
13. Chemical vapor deposition for microelectronics
المؤلف: / by Arthur Sherman
المکتبة: مكتبات الكلية التقنية بجامعة طهران (طهران)
موضوع: Vapor-plating,Integrated circuits - Design and construction
رده :
TS
695
.
S54
1987
14. Chemical vapor deposition for microelectronics : principles, technology, and applications
المؤلف: Sherman, Arthur.
المکتبة: كتابخانه مركزی دانشگاه صنعتی شریف (طهران)
موضوع: ، Vapor-plating,، Integrated circuits-- Design and construction
رده :
TS
695
.
S54
1987
15. Chemical vapor deposition growth and characterization of two-dimensional hexagonal boron nitride /
المؤلف: Roland Yingjie Tay.
المکتبة: کتابخانه مطالعات اسلامی به زبان های اروپایی (قم)
موضوع: Boron nitride.,Chemical vapor deposition.,Electronics-- Materials.,Nanostructured materials.,Boron nitride.,Chemical vapor deposition.,Electronics-- Materials.,Nanostructured materials.,TECHNOLOGY & ENGINEERING-- Mechanical.
رده :
TA455
.
B65
16. Chemical vapor deposition polymerization: the growth and properties of parylene thin films
المؤلف: Fortin, Jeffrey B.
المکتبة: كتابخانه مركزی دانشگاه صنعتی شریف (طهران)
موضوع: ، Chemical vapor deposition,، Thin films
رده :
TS
695
.
F67
2004
17. Chemical vapor deposition: principles and application
المؤلف: / edited by Michael L.Hitchman, Klavs F.Jensen
المکتبة: المكتبة المركزية مركز التوثيق وتزويد المصادر العلمية (أذربایجان الشرقیة)
موضوع: Plasma- Enhanced chemical vapor deposition,Vapor deposition
رده :
TS695
.
15
.
C33
1983
18. Chemical vapor deposition : principles and applications
المؤلف: edited by Michael L. Hitchman and Klavs F. Jensen
المکتبة: كتابخانه پژوهشگاه نیرو (طهران)
موضوع: ، Chemical vapor deposition
رده :
TS
695
.
C54
1993
19. Chemical vapor deposition: principles and applications
المؤلف:
المکتبة: كتابخانه مركزی دانشگاه صنعتی شریف (طهران)
موضوع: ، Chemical vapor deposition
رده :
TS
695
.
C54
1993
20. Chemical vapor deposition : principles and applications
المؤلف: edited by Michael L. Hitchman and Klavs F. Jensen
المکتبة: كتابخانه مركزي و مركز اسناد دانشگاه صنعتي خواجه نصير الدين طوسى (طهران)
موضوع: ، Chemical vapor deposition
رده :
TS
695
.
C54
